荷蘭光刻機公司迫于美國壓力對中國企業斷供?中企回應一切正常

發布時間:2019-11-11 16:00    來源:機床商務網
 

關鍵詞:荷蘭光刻機 斷供

摘要:近日,荷蘭半導體設備供應商阿斯麥爾(ASML)宣布,或將推遲向中國半導體制造商交付極紫外光光刻機(EUV)。該公司發言人表示,此決定是因為出口許可證到期,目前正在向荷蘭政府申請新的許可證。

  近日,荷蘭半導體設備供應商阿斯麥爾(ASML)宣布,或將推遲向中國半導體制造商交付極紫外光光刻機(EUV)。該公司發言人表示,此決定是因為出口許可證到期,目前正在向荷蘭政府申請新的許可證。

  作為極紫外光刻芯片工具(EUV)的全球唯一供應商,延遲發貨將對中國芯片制造造成重擊。而此次受到影響的中國公司,疑為中芯國際(SMIC)。

  日經新聞援引消息人士的話稱,ASML成為美國政府的“犧牲品”,“延遲發貨”的一大原因來自于美國政府的壓力。

  對此,ASML在7日回應,指出公司正在申請許可證,但日經新聞所述“延遲出貨”僅為其媒體推測,ASML對此事從未評論或確認。

  中芯國際也就此事回應稱,公司的EUV還處于“紙面工作”階段,尚未進行相關活動。中芯國際強調,目前,公司的先進工藝研發進展順利,研發與生產的連接一切正常,客戶與設備導入均正常運作。

  盡管中芯已經澄清發文澄清,但是鑒于中興的前車之鑒,光刻機作為芯片制造的必需設備,如果真的斷供我們國家是否有補救措施呢?中國的光刻機技術又是否能代替國外呢?

  ASML光刻機有多厲害?

  光刻機,被稱為現代光學工業之花,制造難度非常大,全世界只有少數幾家公司能夠制造。其售價高達7000萬美金。用于生產芯片的光刻機是中國在半導體設備制造上最大的短板,國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。

  在能夠制造機器的這幾家公司中,尤其以荷蘭(ASML)技術最為先進。價格也最為高昂。光刻機的技術門檻極高,堪稱人類智慧集大成的產物。

  光刻機跟照相機差不多,它的底片,是涂滿光敏膠的硅片。電路圖案經光刻機,縮微投射到底片,蝕刻掉一部分膠,露出硅面做化學處理。制造芯片,要重復幾十遍這個過程。位于光刻機中心的鏡頭,由20多塊鍋底大的鏡片串聯組成。鏡片得高純度透光材料+高質量拋光。SMEE光刻機使用的鏡片,得數萬美元一塊。ASML的鏡片是蔡司技術打底。鏡片材質做到均勻,需幾十年到上百年技術積淀。

  另外,光刻機需要體積小,但功率高而穩定的光源。ASML的頂尖光刻機,使用波長短的極紫外光,光學系統極復雜。有頂級的鏡頭和光源,沒極致的機械精度,也是白搭。光刻機里有兩個同步運動的工件臺,一個載底片,一個載膠片。兩者需始終同步,誤差在2納米以下。兩個工作臺由靜到動,加速度跟導彈發射差不多。賀榮明說:“相當于兩架大飛機從起飛到降落,始終齊頭并進。一架飛機上伸出一把刀,在另一架飛機的米粒上刻字,不能刻壞了。”而且,溫濕度和空氣壓力變化會影響對焦。“機器內部溫度的變化要控制在千分之五度,得有合適的冷卻方法,精準的測溫傳感器。”賀榮明說。SMEE最好的光刻機,包含13個分系統,3萬個機械件,200多個傳感器,每一個都要穩定。像歐洲冠軍杯決賽,任何一個人發揮失常就要輸球。

  目前,全球只有一家企業在光刻機市場上占據了80%的份額,就是處于荷蘭的ASML,旗下所研發的EUV光刻機曾售價高達1億美元一臺,而且還不一定有貨。皆因每臺光刻機的裝配大約需要50000個零件左右。國際上著名的芯片制造商如Intel、臺積電、三星都是它名下的股東。

  中國光刻機技術和ASML的差距有多大?

  目前,中國的光刻機技術和ASML相比,至少有10年以上的差距,短時間內很難追上。

  在光刻機領域,有人根據ASML的技術并結合芯片制造,分為四個檔次,分別是超高端,高端,中端,低檔。分別對應的節點分別5/7nm工藝、7-28nm工藝、28-65nm工藝,65-90nm工藝。目前ASML的產品覆蓋所有檔次,而nikon的產品停留在28nm這個節點,cannon和smee(上海微電子)停留在90nm這個節點。

  是的,中國的最高技術是90nm,生產出來的光刻機處于低端,只能生產90nm的芯片,而在90nm之后,還有65nm,45nm,32nm,22nm,14nm,10nm,7nm,5nm。而這些節點技術,有好幾個臺階要上,首先是45nm的臺階,再到22nm的臺階,再到10nm臺階,再到7nm的臺階,真的是一步一個坎,有些坎幾年都未必能夠更新出一代來。

  所以說,從目前的這個情況來看,國產光刻機技術落后ASML至少是10年以上。也就是說,如果真的斷供,“卡脖子”的事情極有可能發生。

(責編:)

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